软板铜箔与硬板铜箔有什么不同呢?
一、软板介绍
软板(FPC)是上世纪70年代美国为发展航天火箭技术发展而来的技术,是以柔性覆铜板为基材制成的一种具有高度可靠性,绝佳挠曲性的印刷电路。下面pcb小编将带大家了解。
软板(FPC)图示及其优势
二、软板产业链梳理
软板(FPC)产业链直接原材料上游为挠性覆铜板(FCCL),下游为终端消费电子产品,如:智能手机,汽车电子等方面。其中挠性覆铜板(FCCL)直接原料上游有:铜箔、聚酰亚胺(PI)薄膜或聚酯(PET)薄膜基材和胶黏剂。
三、软板用铜箔的种类及区别
软板用铜箔材料主要分为压延铜箔和电解铜箔两种,从性能上讲压延铜箔延展性,耐弯折性要优于电解铜箔,压延铜箔延伸率可达20%-45%,因其优异的延展性和耐弯折性被用于早期软板制程铜箔。电解铜箔延伸率只有4%-40%。电解铜箔的优势在于其铜箔材料是在外加直流电作用下,用硫酸铜电解液通过电沉积的方式形成,其铜微粒结晶结构排列均一,所形成的镀层及最终表面处理后形成的表面较为平整。另外,铜微粒结构在蚀刻过程中易形成垂直的线条边缘,利于精细导线的制作。电解铜箔因其制造成本低,制成的软板表面更加光亮,被用于对于柔性要求不高的线路板。
四、软板用电解铜箔种类
软板用电解铜箔按粗糙度不同可分为高温高延伸铜箔(HTE铜箔)、反转铜箔(RTF铜箔)、低轮廓铜箔(VLP铜箔)和超低轮廓铜箔(HVLP铜箔)。其中HTE铜箔粗糙度在4μm-6.5μm左右,适用于耐折度要求不高的场合,如:连接线、灯带中,在三层法中应用居多;RTF铜箔的特别之处在于处理面选择低粗糙度的光面进行处理,粗糙度在2μm-4μm之间,主要用于中精细线路和高档高频高速电子电路,如:手机、VR设备等,配合2层法和3层法使用;VLP铜箔和HVLP铜箔粗糙度在2μm以下,这种极低粗糙度,可以减少信号传输过程的信号损耗,主要用于高频高速电子电路,如:5G、云服务器等,在2层法中使用居多并适用于低介电常数基材,如:PTFE、LCP(液体聚合物)。
五、软板用铜箔性能指标
软板为满足电子产品轻、薄、短、小的要求,对覆铜板中铜箔基材有一定要求,如:铜箔厚度、单位面积重量、粗糙度、延展性、剥离强度、针孔/渗透点等方面有严格要求,如下表所示:
结论:随着可穿戴设备、柔性显示和智能设备趋向于轻、薄、短、小爆发式增长,以及未来软板(FPC)有望代替传统的电子原器件,在新能源汽车动力电池模组这一领域将有很大的应用价值。因此,柔性电路板的需求会大幅增加。为迎合市场变化,铜箔产业亦迎来更大的挑战,对于软板用铜箔未来更要向着:厚度更薄、重量更轻、粗度更低等方向发展。
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